为何能够成为全球前20名，是因为上海微电子这几年发展迅速，虽然技术与ASML有一定的差距，但也在慢慢的追上来了，目前已经达到了干式DUV的水平，也就是ArF的水平。

虽然在前道光刻机上有差距，但上海微电子在后道光刻机这一块，是非常强的，后道光刻机也就是封装光刻机，相对而言，对分辨率工艺要求没有那么的高，每年出货量几百台。

并且后道光刻机方面，已被国内众多的封测企业***用，大批量的订购，所以上海微电子能够杀进全球前20名。

按照媒体的说法，目前上海微电子的光刻机，离浸润式光刻机，已经只有一步之遥了，因为干式DUV，与浸润式DUV，光源相同，工作台也相同，差的只是一套浸润式系统，这套系统就是在工作台前，有一层水为介质。

目前国内很快就会突破这一技术，而一旦进入浸润式光刻机领域，那么国产光刻机，将全面崛起，不必看ASML的脸色了，因为浸润式光刻机，也是能够支持到5nm，甚至3nm芯片的。返回搜狐，查看更多